Plasma Charging Damage - Kin P. Cheung - Libros - Springer London Ltd - 9781852331443 - 4 de octubre de 2000
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Plasma Charging Damage 2001 edition

Kin P. Cheung

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In the 50 years since the invention of transistor, silicon integrated circuit (IC) technology has made astonishing advances. In state of the art silicon Ie manufacturing process, plasma is used in more than 20 different critical steps.

346 pages, biography

Medios de comunicación Libros     Hardcover Book   (Libro con lomo y cubierta duros)
Publicado 4 de octubre de 2000
ISBN13 9781852331443
Editores Springer London Ltd
Páginas 346
Dimensiones 155 × 235 × 20 mm   ·   657 g
Lengua English  

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